Forskningsingenjör i Nanolitografi - Under tillsättning eller tillsatt, ej sökbar

Avdelningen för Fasta Tillståndets Fysik söker nu efter en forskningsingenjör som ska ansvara för att genomföra ett processutvecklingsprojekt inom nanoimprint (NIL) och block-copolymer (BCP) nano-litografi och deras tillämpningar. Detta projekt kommer mest att involvera experimentellt arbete med Lund Nano Lab (LNL) med fokus på högupplösta mönsteröverföring från litografiskt definierade mönster till ett halvledarsubstrat.

Ett av huvudmålen för forskningen är att utveckla och tillämpa nya metoder för selektiv modifiering av polymermasker genom t.ex. ALD-baserad sekvensiell infiltrationssyntes, metalljonbelastning eller andra tekniker för att uppnå upplösning under 10 nm vid mönster. Möjliga tillämpningar av dessa metoder kan inkludera tillverkningsteknologi av ultrahögupplösta nanoimprint-stämplar eller tillväxt av III-V halvledar-nanotrådar för elektronik- och fotonikapplikationer.

Projektet kommer att genomföras i nära samarbete med andra forskare, både inom och utanför divisionen för fast tillståndsfysik och NanoLund.

Arbetsuppgifter
Arbetsuppgifterna innefattar ex.:

• Ett experimentellt arbete för att undersöka och utveckla metoder med ultrahög upplösning för att selektivt modifiera BCP- eller NIL-definierade masker för mönsteröverföring. Detta arbete kommer att omfatta tekniker som torr etsning, ALD, förångning, kemisk behandling och elektroplätering.
• Epitaxial tillväxt av nanotrådar och andra strukturer med hjälp av de högupplösta mallproverna.
• Karakterisering av erhållna nanostrukturer, i samarbete med andra forskningsgrupper, vid behov.
• Analys av erhållna resultat, regelbundna presentationer och skrivning av manuskript och rapporter.

Krav för anställningen

• En doktorsexamen eller motsvarande forskarutbildning i fysik eller motsvarande med fokus på nanotillverkningsmetoder
• Mycket goda kunskaper i engelska, i tal och skrift
• Omfattande praktisk erfarenhet av litografiska tekniker, inklusive nanoimprint, optisk litografi och elektronstrållitografi
• Praktiska färdigheter för att använda metallorganisk ångfasepitaxi, PECVD, atomic layer deposition, torr etsning, termisk förångning och metallelektroplätering
• En licens för att arbeta i LNL-renrummet
• Licenser för att använda följande utrustning i LNL: nanoimprint, elektronstrållitografi, atomic layer depostion, PECVD, ICP-RIE, SEM, ellipsometri
• Utmärkt kommunikationsförmåga och teamorienterad strategi

Meriterande för anställningen

För utnämningar till en forskningsingenjör tjänst ska följande utgöra bedömningskriterierna:

• Praktisk erfarenhet av halvledarprocessutveckling
• God förmåga att planera, utveckla och bedriva forskning av hög kvalitet

Ytterligare bedömningskriterier

• Erfarenhet av block-copolymerlitografi
• Erfarenhet av TEM-karaktärisering och provberedning

Hänsyn kommer också att tas till god samarbetsförmåga, driv och självständighet samt hur den sökande genom sin erfarenhet och kompetens bedöms komplettera och stärka pågående forskning inom institutionen samt bidra till dess framtida utveckling.

Villkor
Tidsbegränsad anställning, 1 år och 6 månader, 100%

Instruktioner för ansökan
Ansökan ska skrivas på engelska och innehålla:

• Meritförteckning/CV inklusive publikationslista.
• En generell beskrivning av tidigare forskningsarbete och framtida forskningsintressen (max tre sidor).
• Kontaktuppgifter till minst två referenser.
• Kopia av examensbevis för doktorsexamen samt ev. andra intyg/betyg som du önskar åberopa.